使用纳米颗粒材料制备的涂层和薄膜在各种产品和应用中越来越受到人们的重视和使用，如显示器、传感器、医疗器械、储能材料和能量采集材料等。成功制备出能同时满足最优堆积密度、分子取向、膜厚度等多参数要求的均一涂层成为了众所周知的科研挑战。
而解决这种纳米颗粒薄膜涂层制备的一类精密技术就是KSV NIMA 的Langmuir-Blodgett (LB) 技术和 Langmuir-Schaefer (LS) 技术。
KSV NIMA Langmuir膜分析仪可以在液-气界面制备单分子层，而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析仪可以在液-气界面处形成单分子层，然后将该层作为涂层转移到固体基质上。Langmuir和Langmuir-Blodgett技术具有独特的优势，它们在全球被广泛应用于研究一些最基本的科学问题。 这些优点包括：
KSV NIMA Langmiur和Langmuir-Blodgett膜分析仪是制备和研究单分子层的绝佳工具。基于30年来研究Langmuir膜累积得到的专业知识和经验，KSV NIMA 膜分析仪系统已成为一款多用途、功能强大的仪器，可以帮助您获得高质量数据。该系统设计非常灵活和坚固，可以确保超高质量的结果。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时，可以使用一种特殊的KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统。
卷对卷LB膜分析仪原理
如上图所示，在柔性膜制备过程中，柔性基材被连续地输送入槽体，在槽体中穿过单层纳米颗粒或其他材料。通过对沉积参数进行精确控制，能够快速地沉积大面积的均匀薄膜。柔性基材的运动由计算机控制的电动辊推动。在此过程中，超灵敏度的微量天平实时监测纳米颗粒的堆积密度。
质量
可用性
多功能性
KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于制备高度复杂的有序薄膜。 这些应用包括：
通常用于薄膜制作的材料包括
KSV NIMA LB软件是制备涂层和研究Langmuir薄膜的强大工具。 基于30年的经验，KSV NIMA LB软件包含有效和简便的测量和数据处理所需的所有工具。
多功能测试模式使得测量涵盖从浸渍到压缩等温线、吸附研究和界面流变学。 该软件将整个测量设置与结果一起保存，便于分析。 所有数据都可以根据需要轻松查看、绘图、报告和导出。
测试功能包括：
纳米颗粒、石墨烯和氧化石墨烯涂层
LB和LS技术提供了制备高度有序堆积的纳米颗粒薄膜的平台。 这些涂层具有特殊功能，可用于新的应用。
在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技术沉积在石英基底上的单分子层200nm直径聚苯乙烯纳米球。 （a）单分子层的AFM图像，（b）同一图像的傅立叶变换，表明采用该技术可实现优异的结晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor
浸渍镀膜、LB和LS技术已被证明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的优良方法。 这些方法大大提高了由液体剥离方法生产得到的SG和SGO的沉积分散可控性。由于液体剥离法被认为是最具有潜力的工业大规模生产石墨烯的方法，因此这些沉积方法在石墨烯研究中具有重要意义。
利用PM-IRRAS，可以记录漂浮和沉积层的详细IR光谱以确定化学组成。 可制备一张石墨烯片，以验证LS是制备和研究单层石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。
Gilje, S. et al., ‘Nano Letters’ (2007), 7, 3394-339
亲脂性蛋白常常存在于细胞膜中，漂浮单分子层模型可用于研究它们在接近原始环境时的相互作用，研究参数包括不同环境或含量的膜的堆积密度。
KSV NIMA提供了广泛的配件选择，可以集成到系统中提供进一步的检测表征功能。包括:
| KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统 | |
| 表面积 | 2330 cm2 |
| 槽体内部尺寸 | 685 mm x 340 mm x 4 mm |
| 滑障速度(mm/min) | 0.1...270 |
| 滑障类型 | 1 个, POM材质 |
| 膜天平测量范围(mN/m) | 0...300 |
| 膜天平分辨率 (μN/m) | 0.1 |
| 膜天平数量 | 1 -2个 |
| 亚相容积(mL) | 5430 |
| 浸渍井尺寸 | 300 mm x 300 mm x 50 mm |
| 柔性基板宽度 | 1…200 mm |
| 柔性基板转速 | 1…100 mm/min |
| 辊轴运动位置分辨率 | 20 um |
| 薄膜提拉角度 | 可调节, 30°- 90 ° |
| 镀膜方式手动或半自动 | 镀膜方式手动或半自动 |
| 兼容性 | LB膜浸渍镀膜头、小型布鲁斯特角显微镜、表面电位仪、自动进样泵、亚相蒸发补偿工具、LS水平镀膜装置等 |
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