QSense® Omni 耗散型石英晶体微天平
——高效无忧的QCM-D技术 创新引领未来
QCM-D技术的开创者
瑞典百欧林科技有限公司与查尔姆斯理工大学是QCM-D技术的开创者，QSense®为纳米级表界面相互作用跟踪和表征提供全球领先的、高端的耗散型石英晶体微天平。QSense® 耗散型石英晶体微天平通量高、易于使用，可以为您提供独特的、可重复的和有深度的数据。这有助于您了解反应的基本原理过程、提前预测真实结果以及优化产品和流程，以适应真实的反应条件。拥有一台QSense®耗散型石英晶体微天平，可以使您和您的团队一直处于科学进步和技术创新的最前沿。
QSense® Omni是我们最新一代QCM-D耗散型石英晶体微天平，现有的技术加上几十年对表界面相互作用的深度理解，QSense® Omni可以为您提供更清晰的结果和更顺畅的实验过程。QSense® Omni可以更快展示您独到的见解，并基于高度可控的测量结果做出更可靠的结论。
您需要简单易用
您需要灵活性
您需要自动化
您重视数据质量
三个选用QSense® Omni的原因：
数据解析更容易
一流的信号处理和快速可重复的液体交换，QSense® Omni为您提供清晰、简洁的数据。数据解析和分析更为轻松自信。
实验过程更顺畅
得益于直观的设计、智能的工作流程和灵巧的自动化，成功进行QCM-D实验并获取可信和可重复的结果变得史无前例地轻松简单。生产力大幅提高，工作更有效率。
与研究共同成长
设计卓越、功能智能，QSense® Omni为科学进步和未来创新量身定制。升级到更多通道或增加QSense Orbit来构建更多元化的实验设置和补充测量，您可以轻松跨越入门级门槛，让QSense® Omni与您的研究共同成长。
多种芯片表面可选：
QSense芯片是QCM-D测量的核心。芯片涂层的选择对于您的实验至关重要。百欧林科技可提供超过我们提供50种标准芯片涂层和200多种定制芯片，涵盖各种材料，包括金属、氧化物、碳化物、聚合物、功能化涂层和标准化土壤。您可以从种类繁多的芯片中找出哪种芯片材料和涂层最适合您的研究。也可以根据您的需求让百欧林为您量身定制，我们可以让您尽可能接近真实的反应条件。
百欧林科技开发和生产的芯片，经过严格的验证。QSense芯片将为您的QSense系统提供稳定、可靠和可重复的数据。芯片建议一次性使用。
一同领略 QSoft Omni 软件的风采吧！一个全新的、用户友好的软件，旨在帮助您完成实验设置并成功获得实验数据。当您在准备实验时，QSoft Omni 软件会在后台进行QC程序，确保测量条件最佳。QSoft Omni帮您采集数据，而Dfind使您的数据分析更轻松。
图片 2：QSoft Omni 软件
QSoft Omni 软件主要特点：
——探索更多：
浏览以下可选配模块，扩展您的实验设置和可能性。
QSense湿度模块
用于测量芯片上涂覆的薄膜对蒸气的吸收和释放。
QSense窗口模块
该系统可以在芯片表面上同时进行QCM-D测量和显微镜观察。您还可以进行对光或辐射敏感的实验。
QSense 电化学模块
想在同一表面上同时进行QCM-D和电化学测量？该模块支持多种电化学方法，如循环伏安法和电化学阻抗测量，可探索如聚合物的界面行为、静电相互作用、腐蚀性能等。
QSense电化学窗口模块
该模块可在芯片表面上同时进行QCM-D测量和光学、电化学测试，该模块通常用于光伏等应用。
QSense开放模块
开放模块无需管路，样品需求量低。您可以直接移液少量液体确保覆盖芯片即可。该模块可进行样品挥发性、外部触发反应（如光诱导反应和化学触发反应）等研究。
QSense湿度模块
用于测量芯片上涂覆的薄膜对蒸气的吸收和释放。
QSense ALD（原子层沉积）样品架
适用于真空或气相环境测量。
QSense PTFE流动模块
适用于对钛材料敏感的测量体系。类似于标准流动模块(QFM 401)，但流路部分的钛被PTFE替换。
BASF试用QSense® Omni后的第一印象
“我观察到QSense® Omni减少了交叉污染，这对于获取准确的数据至关重要。我认识到这在我们未来的研究中极具潜力和价值。”
- Peter Stengel
“从我进行实验的初步经验来看，很明显QSense® Omni是为易于使用而设计的，多个用户可同时开展实验。”
- Franziska Tauber
让我们深入了解下QSense Omni的技术性能，您还可以将这些参数与其他QSense仪器进行比较。
| 测量范围和能力 | ||||
| 通道数 | 1 - 4 | |||
| 工作温度 | 4 到 70 °C | |||
| 芯片基频范围 | 4.9 MHz ≤ f ≤ 5 MHz | |||
| 频率范围 | 1-72 MHz | |||
| 倍频数量 | 7, 均可用于粘弹性建模 | |||
| 样品和流速 | ||||
| 芯片上方体积 | ~ 20 μl | |||
| 最小样品体积（流动模式） | ~ 90 μl | |||
| 流速范围 | 1-200 µl/min | |||
| 液体处理模式 |
程序自动控制进样，结束后管路自动清洗，中途无需人工操作。 | |||
| 测量特性 | ||||
| 最大时间分辨率 | 每秒300个数据点 (每个数据点一个f 值和D值 ) | |||
| 谐振电路 |
开路电压式谐振电路（OCV，电路以高频断开和闭合，闭合过程中记录物质吸附时的频率变化(Δf)，断开时记录芯片自由衰减耗散变化(ΔD） | |||
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最小噪音a |
频率: 0.005 Hz 耗散因子: 1∙10-9 |
温度：0.0005 ˚C 质量: 0.08 ng/cm2 |
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| 不同模式下的性能请参阅样本第7页 | ||||
| 长期稳定性 b C |
频率:< 0.25 Hz/h 耗散因子: < 0.04.10-6 /h |
温度: < 0.003 ˚C/h | ||
| Software软件 | QSoft Omni | Dfind分析软件 | ||
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数据输出 |
7个倍频下的频率和耗散因子 | 厚度（或质量）、粘度、剪切模量以及粘度和剪切模量的频率依赖性、动力学、斜率、上升时间等 | ||
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电脑配置 |
USB 2.0或更高版本Type C接口 Intel i5处理器（或同等处理器） 内存不小于8GB 屏幕分辨率不小于1920 x 1080 |
64位处理器 屏幕分辨率不小于1366×768 内存不小于4 GB |
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| 操作系统 | Windows 10或更新版本（Windows早期版本可能无法正常运行） | |||
| 数据输入/输出 | SQLite | pdf, rtf, png, svg, gif, csv, xls, ogw | ||
| 电源 | ||||
| 仪器输入 | 24 V DC, 10 A | |||
| 外部电源输入 | 100-240 V AC, 50-60 Hz, 12.5 A | |||
| 尺寸和重量 | 高(cm) | 宽(cm) | 深(cm) | 重量(kg) d |
| 单通道 | 32 | 22 | 36 | 14 |
| 双通道 | 32 | 29 | 36 | 22 |
| 三通道 | 32 | 36 | 36 | 29 |
| 四通道 | 32 | 43 | 36 | 37 |
所有规格可能会在未经通知的情况下更改
更高的采样速率不可避免地会产生更高的噪音和提高检出限。通过明显降低噪音水平，QSense® Omni极大地降低了检出限。下面的图表描述了QSense® Omni在三种不同采样间隔下的检测限，可以看出在高采样频率下检出限也可以做到非常低。下面的图表列出了每种采集模式下的采集速度和检出限（LOD）。
表1 a：性能特征
| 数据采集设置 | 采集7个倍频数据需要的时间(s) | f/n-噪音 (Hz) |
检测限(ng/cm²)
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耗散因子D噪音(∙10-6) |
| 低噪音 | 9.68 | 0.005 | 0.239 | 0.001 |
| 正常 | 1.06 | 0.009 | 0.496 | 0.003 |
| 快速 | 0.09 | 0.029 | 1.513 | 0.011 |
图2a：每种采集模式下的采集速度和检出限（LOD）。不同的采样间隔下的理论检测限（LOD）。检测限设定为频率噪音水平的3倍。
a 实验条件如下：QSX 303 SiO2芯片在20°C温度下、流量15μL/min的去离子水中使用一个测量通道进行测量。每种测量模式测量5分钟，根据1分钟时间范围内采集数据点的标准偏差，统计确定噪音数据。
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