KSV NIMA Langmuir膜分析仪可以在液-气界面制备单分子层，而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析仪可以在液-气界面处形成单分子层，然后将该层作为涂层转移到固体基质上，这使得其可以精确控制厚度、分子取向和堆积密度，可用于制备单分子层和多层薄膜。
Langmuir和Langmuir-Blodgett技术具有独特的优势，它们在全球被广泛应用于研究一些最基本的科学问题。 这些优点包括：
质量
可用性
多功能性
KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于制备高度复杂的有序薄膜。 这些应用包括：
通常用于薄膜制作的材料包括
产品详情
KSV NIMA提供多种尺寸和功能的L和LB槽。 我们的L和LB系统是完全模块化的，一个主体框架可以用于不同尺寸和类型的槽体。 除了下面的标准品种，还可以根据要求进行定制槽制作。
槽体可以在几秒内互换，即标准主体框架可以接受任何中小型槽体，而较大的框架除了较大的槽之外，还可以兼容较小的槽体。
KSV NIMA Langmuir膜分析仪
标准Langmuir膜分析仪可根据需要提供几种尺寸。 当使用昂贵的分子时，优选较小的槽体，而较大的系统提供了更多的空间以与表征仪器结合并提供较高的压缩比。
KSV NIMA显微镜槽是一种特殊的Langmuir槽，包含正置或倒置显微镜窗口。 该窗口允许高达200nm波长的光学透射（适用于可见光或UV显微镜）。
Langmuir 缎带槽可以通过约束单分子层研究高堆积密度的浮动单分子层（例如DPPC>70mN/m）。 在肺表面活性物质（DPPC）行为等现象研究中，需要在高表面压力下工作。
液-液Langmuir槽扩大了使用液-液界面和气-液界面的能力。 液-液界面通常用于研究例如乳液稳定性和油气的性质、食品和化妆品或药物等。
KSV NIMA Langmuir-Blodgett膜分析仪
标准KSV NIMA LB膜分析仪也有多种尺寸，从小到大。 根据系统的大小，您可以将LB薄膜沉积在尺寸从几平方毫米到几十平方厘米不等的样品上。 LB的浸渍机理也可以很容易地装置用于水平Langmuir-Schaefer沉积的LS沉积套件。
KSV NIMA交替槽是优质的Langmuir-Blodgett槽。 它可以在同一个实验中使用两种不同的材料自动镀膜基材，可用于更高级的高度有序涂层。 材料可以以任何期望的顺序和方向沉积。该系统使用两套滑障和压力传感器分别控制每种材料的包装密度。
KSV NIMA LB软件
KSV NIMA LB软件是制备涂层和研究Langmuir薄膜的强大工具。 基于30年的经验，KSV NIMA LB软件包含有效和简便的测量和数据处理所需的所有工具。
多功能测试模式使得测量涵盖从浸渍到压缩等温线、吸附研究和界面流变学。 该软件将整个测量设置与结果一起保存，便于分析。 所有数据都可以根据需要轻松查看、绘图、报告和导出。
测试功能包括：
纳米颗粒、石墨烯和氧化石墨烯涂层
LB和LS技术提供了制备高度有序堆积的纳米颗粒薄膜的平台。 这些涂层具有特殊功能，可用于新的应用。
在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技术沉积在石英基底上的单分子层200nm直径聚苯乙烯纳米球。 （a）单分子层的AFM图像，（b）同一图像的傅立叶变换，表明采用该技术可实现优异的结晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor
浸渍镀膜、LB和LS技术已被证明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的优良方法。 这些方法大大提高了由液体剥离方法生产得到的SG和SGO的沉积分散可控性。由于液体剥离法被认为是最具有潜力的工业大规模生产石墨烯的方法，因此这些沉积方法在石墨烯研究中具有重要意义。
利用PM-IRRAS，可以记录漂浮和沉积层的详细IR光谱以确定化学组成。 可制备一张石墨烯片，以验证LS是制备和研究单层石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。
Gilje, S. et al., ‘Nano Letters’ (2007), 7, 3394-339
亲脂性蛋白常常存在于细胞膜中，漂浮单分子层模型可用于研究它们在接近原始环境时的相互作用，研究参数包括不同环境或含量的膜的堆积密度。
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